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X光光电子能谱仪 (XPS/ESCA)
在半导体、LED、印刷电路板及面板产业中，表面元素分析在产品开发与产线监控上，扮演重要角色。在各项表面分析设备中，XPS (X光光电子能谱仪, 亦称 ESCA)广为业界应用，主要原因来自于，XPS能同时得到材料表面元素分布及化学键结等信息，且不受样品导电性的限制。 XPS分析原理 XPS原理简单说就是光电效应，藉由X光光电子能谱分析材料表面各种元素之化学状态。当X光由材料表面入射进入内部时，X光会将原子内之核心电子或键结电子激发至激态，靠近材料表面之高能态电子将有机会逃离材料表面，这些逃离材料表面之电子即称为X光光电子。分析被激发出的光电子能量可得到组成元素种类，更可以得知其化学讯息，判断化学态。 iST服务范畴 iST宜特科技特高阶XPS – Quantera II扫描式X光光电子能谱仪，相较传统XPS特小仅能达到50微米的微区分析能力，宜特Quantera II特小可达7.5微米，能针对样品表面更细微的结构进行分析，满足业界所需。
此外，传统XPS是用光学方式进行定位，在微区选择分析上往往会因为放大倍率的不足而影响微区选择的准确性，造成其分析结果无法判读(分析结果非正确来自于目标微区)。而Quantera II在样品定位上除了传统的光学影像外，还可透过聚焦X-ray的方式来得到更高倍率的SXI二次电子影像 (Scanning X-ray Induced secondary electron image, 成像原理与SEM雷同)，大大提高微区选择分析的准确性，分析能力大为跃进。
机台规格：
厂牌及型号：PHI QuanteraII
X射线束特小直径：7.5um
能量分辨率：0.48 eV (Ag3d5/2)
试片定位：SPS光学及SXI成像
试片大小：<75mm
XPS 主要功能
表面分析(Surface survey) : 样品表面7*以内的成份分析。
表面化学组态分析 (Narrow scan) : 样品表面7*以内的元素化学组态键结分析。
纵深分析 (Depth Profile) : 藉由Ar 离子溅蚀样品的表面，得到不同深度的元素讯号之纵深分布。
图谱分析(Mapping) : 分析样品区域元素讯号，得到区域元素分布影像图。
线扫描(Line scan): 分析样品直线上的元素讯号，得到直线元素分布图。
XPS 分析应用
样品氧化状况(氧化层厚度及氧化态)分析。
多层薄膜的纵深成分分析。
表面组成分析。
表面污染/变色之成份分析。
关于宜特：
iST始创于1994年的台湾，主要以提供集成电路行业可靠性验证、失效分析、材料分析、无线认证等技术服务。2002年进驻上海，全球现已有7座实验室12个服务据点，目前已然成为深具影响力之芯片验证第三方实验室。 |
