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嘉仪通晶化快速退火炉RTP-3-01系列采用红外辐射加热技术，可实现1吋(选配2吋)样品快速升温和降温，同时搭配超高精度温度控制系统，可达到**的温场均匀性，对薄膜材料进行晶化快速退火处理，提高薄膜材料的均匀性及稳定性。
晶化快速退火炉产品特点：
快速加热和降温: **可控升温速率可达50 ℃/s，特定条件下可以达到100 ℃/s。冷壁水冷设计能够达到较大的降温速率，特定条件下可达30 ℃/s。
精确控温: 采用工业级温控器进行PID精确控温，目标温度与设定温度曲线一致性高，可实现室温至1200 ℃的温度精确控制。
适应多种工艺环境: 满足多种工艺气氛下的热处理（氮气、氩气等）。同时，通过选配真空泵，可以在真空条件下进行退火，**真空度可达10-3Pa。
配备观察窗口: 通过观察窗口，可以实时观察热处理过程中的样品变化。同时，可以结合相关测试方法进行原位测试分析。
超高安全系数: 采用炉壁超温报警系统和冷却水流量报警系统，***保障仪器使用安全。
国产退火炉：拥有自主研发技术和制造能力，能快速反应客户售后需求。
晶化快速退火炉技术参数：
型号 RTP-3-01系列
**温度 1200℃
**升温速率 50℃/s
温度均匀性 ≦1%设定温度
温度控制 选用工业级温控器，控温精度±0.1℃
温度传感器 标准K型热电偶
**降温速率 1200℃→400℃，200℃/min
400℃→100℃，20℃/min
（自然冷却）
**样品尺寸 W20 x L20 x T2 (mm)
主机尺寸 W420X L320X H220 (mm)
主机重量 20.5kg
晶化快速退火炉客户案例：
清华大学使用嘉仪通1吋晶化快速退火炉给HfO2薄膜做晶化退火，得到晶相一致晶粒较小的晶体，提高薄膜材料的均匀性及稳定性。 |
