无锡半导体厂废气净化选用哪种设备光氧催化氧化法:利用特制的高能高臭氧UV紫外线光束照射废气,使有机或无机高分子恶臭化合物分子链,在高能紫外线光束照射下,与臭氧进行反应生成低分子化合物,如CO2、H2O等。适用范围广,净化效率高,操作简单,除臭***,设备运行稳定,占地小,运行费用低,随用随开,盖味除臭能力好,分解效果没有低温等离子好,不会造成二次污染。产品优势:1.**除恶臭:光解催化氧化设备能**去除挥发性有机物(VOC)无机物,,氨气,硫醇类等主要污染物,以及各种恶臭味,脱臭效果大大超过国1993年颁布的(GB14554-93)恶臭污染物排放标准.2.无需添加任何化学物质:只要是设备相应的排风道和排风动力,使恶臭气体通过本设备进行脱臭分解净化,无需添加任何化学物质参与化学反应.无锡半导体厂废气净化选用哪种设备3.适应范围广:可适应高,低浓度,大气量,不同恶臭气体物质的脱臭净化处理,可每天24小时连续工作,运行稳定可靠.4.运行成本低:本设备无任何机械动作,无噪音,无需专人理,只需定期检查,本设备能耗低.5.占地面积小:适合于布置紧凑,场地狭小等特殊条.6.优质材料制造:防水 |