CRESTEC电子束光刻曝光机电子束光刻系统 EBL E-Beam Lithography
电子束直写系统 、 电子束曝光系统
CABL-9000C series
30kV、50kV、90kV、110kV、130kV
2inch、4inch、6inch、8inch、定制尺寸
纳米光刻技术在微纳电子器件制作中起着关键作用,而电子束光刻在纳米光刻技术制作中是好的方法之一。日本CRESTEC公司为21世纪先进纳米科技提供 的电子束纳米光刻EBL系统，或称电子束直写EBD、电子束爆光系统。
型号包括CABL-9000C系列、CABL-9000TF系列、8000...身份证社保卡发卡机维护发卡机，发各种卡片，.复恒自控技术___身份证社保卡发卡机维护
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1. 主要性能 具备卡空检测和卡预空检测卡箱里卡片设定的数量
专业设计的钩卡功能，保证了每次发卡的准确性
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