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众所周知洁净厂房的作用是在一定空间范围内，将空气中的微粒子、有害空气、**等污染物排除，并将室内温度、洁净度、压力、气流速度与气流分布、噪音振动及照明、静电控制在某一需求范围内的工程学科。洁净厂房所特别设计的房间，不论外在空气条件如何变化，室内均具有维持原先所设定要求之洁净度、温湿度及压力等性能。这比用紊流来描述乱流洁净室更确切。紊流主要决定于雷诺数，洁净厂房主要受流速的影响，但是如果采用一个高、效过滤器顶送的送风形式，则即使流速极低，也要产生上述各种结果，这就因为它是一个突变流和非均匀流。因此这种情况下不仅有流层之间因紊流流动而发生的掺混，而且还有整个洁净范围内大的回流、旋涡所发生的掺混。
洁净厂房作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。比如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，洁净厂房特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。
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