真空镀膜机工作原理是高速旋转基片,利用离心力使滴在基片上的胶液均匀的涂在基片上,常用于各种溶胶凝胶(Sol-Gel)实验中的薄膜制作,厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同,也和旋转速度及时间有关。
涂膜机适用于半导体、化工材料、硅片、晶圆片、光学玻璃、化学玻璃等表面涂覆材质,高精度的旋涂仪涂膜机主要应用科研院所进行科学研究,课题公关所用。(二手真空镀膜机回收:13632561050)
本机是磁控溅射真空镀膜机,真空室为小型前开门箱式结构,真空室尺寸Φ400mmX400mm。真空度:2X10-4Pa。主要配置装有一个Φ240mm大平面磁控溅射靶,靶内有多个磁钢,溅射中不断转动,以提高靶材利用率和提高基片成膜的均匀性;配RF和DC均为1000W的两种磁控溅射电源;基片加热的温度**可达650℃。本机可镀各种膜,包括功能膜。抽气系统配F-250分子泵,2ZD-15直联机械泵。与传统的电镀法 |