CY-O1200-60-4CLV-PE
主要用途:等离子体增强型化学气相沉积(PECVD)技术是借助于辉光放电(等离子体)使含有薄膜组成的气态物质发生化学反应,从而实现薄膜生长的一种制备技术。我公司综合了多项实验要求设计生产了该款等离子pecvd系统,能广泛适应各类薄膜研究的需要比如:石墨烯制备、C纳米材料制备、氧化物制备。是一款****的薄膜制备器材。
产品简介
与普通的CVD系统相比,因为有等离子源的介入,系统的沉积温度相对较低。
触屏输入,微电脑全自动控制。
配备有滑轨式管式炉可以轻松实现快速降温,实现快速退火。
该系统**工作温度接近1150℃,能满足大多数热处理场合。
该设备可具体用于:碳、 ZnO 纳米管或纳米线的制备也可以用于制备单层石墨烯以及各种CVD实验。 |