CY-O1200-50ICS-HTV
主要用途:高真空管式炉由高纯石英管做加热反应腔,**温度可达1200℃,可外接多种惰性气体,能满足大多数CVD实验要求,该系统是科研单位、高等院校用于材料研究的理想选择。
产品简介
该高真空管式炉由小型真空管式炉和涡轮分子泵组组成,分子泵组的主要部件有:前级机械泵,隔断放气阀,前级管路、分子泵电源,控制电源等组装于机架而成的清洁超高真空获得设备。安装方便,操作简单,易于联接,性能可靠,可广泛用于表面分析,加速器技术,半导体设备,等离子体技术,电真空器件的制造及真空技术各领域;小型真空管式炉由高纯石英管做加热反应腔,**温度可达1200℃,可外接多种惰性气体,能满足大多数CVD实验要求,该系统是科研单位、高等院校用于材料研究的理想选择。 |