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大日本科研DNK胶片用曝光机 |
| 时间：2015-06-24 类别： 行业动态 |
大日本科研DNK胶片用曝光机
深圳市京都玉崎电子有限公司 京都玉崎：陈永康 玉崎热线：13717018123 QQ:2853007784 0755-28578111-605 大日本科研DNK产品如下： MA-6131ML FPD曝光装置 G1/G3基板用近接曝光装置MA-5501ML、MA-5701ML G3/G5基板用直立型近接曝光装置MA-6701ML、MA-6801ML、MA-6131ML 超大型PDP用直立型近接曝光装置 化合物半导体用曝光装置 实验·研究用曝光装置MA-1200、MA-1400 胶片用曝光装置 微系统（mems）用曝光装置 有机电子EL（发光）基板用封止装置 无掩膜曝光装置MX-1101、MX-1201、MX-1301E、MX-1702 大日本科研DNK曝光机MA-5501ML 京都玉崎：陈永康 玉崎热线：13717018123 融合机械和电子的「机电一体化」技术很早已应用于众多装置,本公司在此基础上,着眼于「光」领域与机电一体化的研发,确立了「光机电一体化」技术。我们坚信,此技术今后一定会应用于所有领域,也必将融汇于信息化社会发展的全过程。 本公司光学技术的**特征 利用大型镜面光学系统形成的平行光大面积照射 利用的独自的光学设计形成的光学系统配置 利用独自的镜面光学系统形成的高照度均一照射 为了实现这些功能特征,我们努力研究和开发了 高功率超高压水银灯（可对应双灯方式） 自行设计制造（已取得专利）的复眼透镜 高反射率光学镜 这些先进,**的技术,使大面积照射?均匀照射?高照度成为可能,提高了曝光转印精度。 G1～G4.5基板用プロキシミティ露光装置 主な特長 タクトタイム約20秒(標準仕様機で、オートアライメント許容値0.5μmに設定の場合。露光時間は除く)のハイスピード露光処理が可能。 直読式ギャップセンサーと独自の制御システムにより、マスクと基板の間のプロキシミティギャップを高速?高精度に設定可能。 処理部の温度を厳しくコントロールする環境チャンバーを準備。また、熱による基板の伸縮を防止するステージ温調システムも採用可能。 マスクやガラス基板の温度差による伸縮を防止するために、基板ステージ温度コントロールやマスク冷却システムを選択可能。(オプション) 5枚のマスクを収納できるマスクライブラリを搭載可能。 资讯来源：深圳市京都玉崎电子有限公司 |
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