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什么是单一磨料的CMP抛光液？ |
| 时间：2023-08-29 类别： 其它资讯 |
单一磨料CMP抛光液
化学机械CMP抛光液在研究初期大多是使用单一磨料，如氧化铝抛光液（Al2O3）、二氧化硅抛光液（SiO2）、二氧化铈抛光液（CeO2）、氧化锆抛光液（ZrO2）和金刚石抛氧化铝抛光液--Al2O3的硬度高，多用于蓝宝石、碳化硅、光学玻璃、晶体和合金材料的抛光，但含Al2O3的抛光液会出现选择性低、分散稳定性不好、易团聚的问题，容易在抛光表面造成划伤，一般需要配合各种添加剂使用才能获得良好的抛光表面。 氧化硅抛光液--SiO2具有良好的稳定性和分散性，不会引入金属阳离子污染，其硬度与单质硅接近，对基底材料造成的刮伤、划痕较少，适合用于软金属、硅等材料的抛光，是应用最广泛的化学机械抛光液。 氧化铈抛光液--CeO2具有较为适中的硬度，由于Ce元素具有多种价态且不同价态间易转化，容易将玻璃表面物质氧化或络合，因此CeO2被广泛应用于手机屏幕、光学玻璃、液晶显示器和硬盘等产品的化学机械抛光中。但是Ce为稀土元素，且现有加工工艺较为复杂，生产出的CeO2磨料的粒径分布不均匀，而导致CeO2抛光液的使用成本较高，限制了CeO2抛光液的发展应用。 吉致电子科技有限公司有成熟的CMP集成电路抛光液配方和产品，满足给类工件抛光需求，25年经验抛光液厂家欢迎来电咨询，免费试样。 本文由无锡吉致电子科技原创，版权归无锡吉致电子科技，未经允许，不得转载，转载需附出处及原文链接。http://www.jzdz-wx.com/ 无锡吉致电子科技有限公司 联系电话：17706168670 邮编：214000 地址：江苏省无锡市新吴区行创四路19-2 此文关键字：CMP抛光液 氧化铝抛光液 氧化铈抛光液 氧化硅抛光液 抛光液厂家 资讯来源：http://www.jzdz-wx.com/ |
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