吉致电子研发的CMP抛光液产品广泛应用于金属、光电、集成电路半导体、陶瓷、硬盘、面板显示器等材质表面的深度处理。吉致电子CMP抛光耗材产品可广泛应用于各种CMP领域，包括Lapping机台、五轴机台、单面抛光机、双面抛光机等其他研磨抛光机台设备。
化学机械抛光液升级配方可用于半导体行业硅片硅衬底减薄、碳化硅衬底抛光、蓝宝石衬底抛光。针对性更强的抛光液产品如阻挡层化学机械抛光液，钨化学机械抛光液以及介质层化学机械抛光液、浅槽隔离化学机械抛光液、用于3D封装TSV化学机械抛光液可详细咨询。lapping研磨抛光液的特点是不伤机台和工件，液体分散性好，提高抛光速率改善工件表面质量，易清洗无残留。
吉致电子科技25年研发经验，实力抛光液生产厂家，可按客户要求调整改良配方，提高工件抛磨效果。
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