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　　0010-26462半导体配件渠道商介绍，全球**大半导体厂商，也是市占率高达20%的公司AMAT正在中止EUV Blank mask开发。作为全球**的半导体设备厂商AMAT持续寻求新的生长动能，而韩国外乡企业对相关材料的停顿却缓不济急。

　　Blank mask是指半导体曝光制程所用的未绘制电路Pattern状态的光罩。曝光制程是提早将半导体电绘制到光罩之后中止光反射或透射反复印制在晶圆的过程。类似于是画底图，为控制光源绘制电路，光罩式必不可少的中心。

　　普通来说是先制造出空白光罩即Blank mask之后再对其中止pattern绘制。而作为次世代半导体制程的EUV是容易被气体、液体、固体所吸收的光源，Blank mask的制造也是非常特殊。

　　曝光制程基本采用ArF光源，以便光源透射。但EUV光罩是经过叠加80层左右的Mo（钼）和Si（硅）以反射EUV光源。所以业界以为EUV Blank mask是一种新事业范畴。

　　业界人士表示：AMAT着手Blank mask已有3年时间，主要是在新加坡主导中止开发。公司以为有利于应用原设备，才会选择Blank mask作为新事业开拓。公司为了尽早完成技术量产，也在和韩国光罩厂商中止协作。

　　但量产或仍需时间。产品量产普通都要耗时10~20年，研发应该还需时间。而即使量产之后，能否能抓住客户也是一个难题。Blank mask基本已被日本HOYA、AGC Glass独供到三星和英特尔，EUV产业链本身也是几乎被HOYA在主导。

　　哪怕技术展开成功也将难超越日本。当然，随着EUV时期的到来，也会有很多Blank mask的需求，AMAT依然还有胜算。AMAT公司对外表示：公司已在中止研发，但暂无法告知细致内容。

　　日本政府9日拒绝韩国方面谈判提议，重申不打算撤销对出口韩国半导体产业原材料的管制。

　　日本经济产业大臣世耕弘成9日终了内阁会议后通知媒体记者：“限制对韩出口不可谈，我们不打算撤回管制措施。”日方供认“报仇”，说限制出口旨在优化出口管控。

　　韩方思索采取包括向世界贸易组织提起申诉等反制举措。世耕说，暂时没有收到韩方恳求世贸组织介入的通知。

　　日本限制芯片原材料向韩国出口，韩国芯片商目前正思索各种应急方法，但面临很大的困难。日方表示将会中止向韩国出口3种原材料的优惠待遇，出口商每次出口都要经过批准，为期90天。

　　▲光刻材料、氟化氢均由日本主导

　　限制令适用于3种产品，均由日本主导，难以在外找到高质替代品。当中包括用于将电路图转印至半导体基板的薄膜光刻材料，用作芯片蚀刻的气体高纯度氟化氢，以及用于制造智能手机显现屏的氟化聚酰亚胺。

　　▲日本企业想办法供货但一定能满足需求

　　日本企业也在想办法缓和业界困境，JSR发言人表示，他们在比利时的工厂可以提供一些光刻胶。东京应化工业发言人则表示，公司在韩国设有一间工厂，可以向韩国客户供货一段时间。

　　但工厂还是要从日本取得一些原料，才干制造光刻胶。Stella Chemifa就指出，在韩国的合资企业可以向客户供应氟化氢，但未能说明可以满足几客户需求。

资讯来源：汕头罗克自动化